中商情報網訊：靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材，特別是高性能濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積工藝，是制備半導體晶圓、顯示面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。
高性能濺射靶材市場規(guī)模增長穩(wěn)定
我國高性能濺射靶材行業(yè)在國家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應用領域需求的支撐下，行業(yè)技術不斷突破，產品性能不斷提升，帶動高性能濺射靶材市場規(guī)模不斷擴大。數據顯示，中國高性能濺射靶材市場規(guī)模由2016年的98.9億元增長至2020年的201.5億元，年均復合增長率為19.47%。中商產業(yè)研究院預測，2022年中國高性能濺射靶材市場規(guī)模將達288.1億元。
數據來源：中商產業(yè)研究院整理
應用市場分析
濺射靶材是平面顯示、太陽能電池、半導體等領域生產所需的關鍵材料，具有較高附加值和良好的市場發(fā)展前景。在下游主要應用市場中，平面顯示領域占比最高，達到30%。其次是半導體集成電路，占比達20%；太陽能電池領域占比達18%。
數據來源：中商產業(yè)研究院整理
更多資料請參考中商產業(yè)研究院發(fā)布的《中國高性能濺射靶材行業(yè)市場前景及投資機會研究報告》,同時中商產業(yè)研究院還提供產業(yè)大數據、產業(yè)情報、產業(yè)研究報告、產業(yè)規(guī)劃、園區(qū)規(guī)劃、十四五規(guī)劃、產業(yè)招商引資等服務。
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