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2.光刻膠

（1）市場(chǎng)規(guī)模

KrF/ArF光刻膠國(guó)產(chǎn)化加速，但高端EUV膠仍被日美壟斷，模擬芯片制造依賴成熟制程光刻膠，推動(dòng)中端產(chǎn)品需求放量。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2030全球及中國(guó)光刻膠和光刻膠輔助材料行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)研及投資前景分析報(bào)告》顯示，2023年我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約109.2億元，2024年約增長(zhǎng)至114.4億元。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測(cè)，2025年我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模可達(dá)123億元。

數(shù)據(jù)來(lái)源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

（2）重點(diǎn)企業(yè)分析

光刻膠的應(yīng)用領(lǐng)域主要為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、面板產(chǎn)業(yè)和PCB產(chǎn)業(yè)。從細(xì)分市場(chǎng)來(lái)看，在半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)，由于技術(shù)含量最高，市場(chǎng)主要由JSR、東京應(yīng)化、信越、杜邦、富士等國(guó)際巨頭壟斷。具體如圖所示：

數(shù)據(jù)來(lái)源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

3.電子特氣

（1）市場(chǎng)規(guī)模

特種氣體純度要求極高，本土企業(yè)突破蝕刻/摻雜氣體技術(shù)，模擬芯片制造中氣體成本占比超15%，國(guó)產(chǎn)替代直接降本增效。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2025-2030年全球及中國(guó)電子特種氣體行業(yè)前景與市場(chǎng)趨勢(shì)洞察專題研究報(bào)告》顯示，2023年中國(guó)電子特氣市場(chǎng)規(guī)模249億元，2024年市場(chǎng)規(guī)模約262.5億元，中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測(cè)，隨著集成電路和顯示面板等半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，電子特氣的需求將持續(xù)增長(zhǎng)，2025年中國(guó)電子特氣市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)279億元。

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（2）企業(yè)布局情況

中國(guó)電子特氣行業(yè)形成差異化格局，核心特點(diǎn)有三：技術(shù)聚焦光刻氣、高純摻雜氣體等高端制程突破，國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程在半導(dǎo)體制造、光伏及面板領(lǐng)域加速替代進(jìn)口并打入全球供應(yīng)鏈，產(chǎn)能布局向含氟特氣全球領(lǐng)先和軍民融合等多領(lǐng)域協(xié)同拓展，呈現(xiàn)“高端突破-國(guó)產(chǎn)替代-多場(chǎng)景支撐”的一體化發(fā)展體系。

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